Photonics – Chinese

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远场与近场介质不同情况下的远场转换及后续成像问题

    • yxshang
      Subscriber

      老师您好,我想要仿真远场为空气近场为硅介质情况下的标记成像情况,查阅之前的问答有提到近远场介质不同时可以参考Changing the far field refractive index analysis object – Ansys Optics中使用的分析组进行远场分布矫正,后续我想将该远场(图中的E2far2)作为频谱面数据(类似simplified microscope imaging 案例中farfieldpolar得到的数据)进行傅里叶变换得到成像仿真结果,但是E2far2经过计算已是总场数据,是否有办法可以获得各分量矩阵呢?或者在此情况下如何仿真比较合适呢?期待老师的解答,谢谢!

    • Guilin Sun
      Ansys Employee

      你不用E2far2,而是先从EfarTemp提取分量并用新的变量表示,再做后续处理就可以了。注意这两个分量他和俯仰角和方位角球面上的分量。后续需要计算强度时再将结果平方相加即可。

    • Guilin Sun
      Ansys Employee

      你不用E2far2,而是先从EfarTemp提取分量并用新的变量表示,再做后续处理就可以了。注意这两个分量他和俯仰角和方位角球面上的分量。后续需要计算强度时再将结果平方相加即可。

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