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[shenqideliushu]

我做场图分析的时候，发现 平面光源 的位置会对场图结果有影响，如 蓝色半圈 位置所示，并且 平面光源 位置下方的电场图和整个器件上方区域的磁场图会出现 红色圈 处的异常现象，并且电场场图从光源上方看上去类似传播型表面等离激元共振，在下方的变化趋势类似ESP，而磁场图只从变化趋势上看上去类似ESP。器件的类型是介质层上加金属光栅。所以我想知道这是否是平面光源的影响还是其他原因，如果是光源的影响，如何避免它。

电场：

[Guilin Sun]

应该不是光源位置影响的，而是光源与结构之间是入射光与反射光的干涉图案。

至于光源后面不均匀，可能有两个原因：

1： PML反射太强

2： 反射光有高级衍射，不同方向的平面波叠加产生的干涉。你用Visualizer做远场用对数坐标看看，或者用光栅分析检查衍射角。

你的结构与别人的一样吗？

[shenqideliushu]

老师，结构和别人不一样，但大致类似。仿真里PML已经设置到了64层了。
这是直接用Visualizer里的Farfield查看的远场图：
1个周期：

3个周期：

所以这是 反射光有高级衍射，可以避免么?

[Guilin Sun]

衍射是器件与光波的相互作用，要想避免，你只能优化器件，估计比较有挑战性，你要做到短周期才能抑制高级衍射。或者优化光栅是的零级最强，高级非常弱。

[shenqideliushu]

老师，我想问下，虽然有不同方向的平面波叠加产生了干涉，但ESP的变化趋势是否是正确的，也就是说除去平面波的干涉，这里是否存在一个ESP。

[Guilin Sun]

"这里是否存在一个ESP。"这是理论问题了，我不清楚啊，需要你分析，比如用模式分解看看有没有此种模式。

“所以这是 反射光有高级衍射，可以避免么”这个问题没有问到位。衍射是器件与光波的相互作用的结果，前面已提到了，你可以优化器件减小或者消除高级衍射，但是如果器件本身就有你无法避免，是不是？这个问题你好需要再琢磨一下，既然有高级衍射，是不是就接受现实还是进一步优化，你想要的ESP有吗？要其什么特性？想在这个题目上花多长时间？是否必要一定要得到与文献一样的结果？高级衍射存在对你想要的参数有什么干扰（除了看起来不像是平面波以外）？

[shenqideliushu]

好的，谢谢老师