Learning Forum

[Da cheng Mo]

老師您好:

               我的目的是想要得知 320nm的光源在經過一個Binary mask後的成像!

我Binary mask的結構是由玻璃(長15um 寬15um厚度 0.32um)和鉻金屬(形狀為十字，長10um 寬2um 厚度0.1um)組成!

我的monitor名稱為 monitor_1 擺放的位置在 z= -0.2um處得到了成像圖，但我最終想得到的是距離10um跟20um處的成像圖，所以使用了farfieldexact3d的腳本!

下圖的程式和結果圖是我模擬距離10um處的模擬結果。

  

想請問兩個問題:

1.擺放位置在 z= -0.2um處得到的成像圖是否能直接使用farfieldexact3d腳本來得到我想要的距離10um跟20um處的成像圖。

2.如果可以直接使用，為什麼在距離10um處得到的電場值(2.11開根號)會大於在0.2um處的電場值。

謝謝老師

[Guilin Sun]

你的文件用的是周期边界是吧？如果是这样，不可以使用farfieldexact3d，因为这个仅适用于非周期结构。

你说的成像，是经过透镜还是直接传播？如果是直接传播，最好是先分解为光栅衍射级，然后再将衍射级平面波加上合适的位相在指定平面上叠加。

https://optics.ansys.com/hc/en-us/articles/360041781874-Photolithographic-projection-to-photoresist

[Da cheng Mo]

 

 

 

[Da cheng Mo]

老師您好:

我的成像是直接傳播，我用了老師您傳的網址中的propagate_periodic.lsf 腳本來得到 z=10和20um處的成像圖。

結果分別如下。

想問的問題是:

為甚麼在z=20um的圖像中會有邊長為10um的正方形產生？  

我Binary mask的結構是由玻璃(長15um 寬15um)和鉻金屬(形狀為十字，長10um 寬2um )組成。

FDTD simulation region 是(-6到6um)。

[Guilin Sun]

应该是干涉的结果吧。 你也可以仿真较长距离，再用这种方法计算此时的近场结果，比较一下两种方法结果是否接近。

[Da cheng Mo]

老師您好:

我現在想要嘗試模擬光源傾斜對成像會帶來什麼影響。
左(一)是使用腳本得到距離20um處且光源無傾斜的影像 ， 左(二)是使用腳本得到距離20um處且光源有傾斜9度的影像

腳本是參考老師您之前給的連結:

https://optics.ansys.com/hc/en-us/articles/360041781874-Photolithographic-projection-to-photoresist

 

想問的問題：

1.光源傾斜9度時成像有偏移我能理解，但為什麼感覺像是右邊被裁掉然後補到左邊？

 

 

 

 

[Da cheng Mo]

老師您好:

針對您之前傳的腳本連結:

https://optics.ansys.com/hc/en-us/articles/360041781874-Photolithographic-projection-to-photoresist

 

在101-105這裡做相位補償，但是我的結構是十字而他模擬的範例是圓柱。

 

想請問我需要去改動腳本才能得到我想知道的距離monitor 20um處的場強度圖嗎？

如果需要的話我要如何修改？

 

[Guilin Sun]

因为是周期的吧。仿真是周期的，你可以拼接一下看看，周期之间应该是连续的。

[Da cheng Mo]

 

 

 

[Da cheng Mo]

老師您好:

那如果我想觀測光源傾斜後完整的十字，我是需要改動腳本嗎？

還有想請問為何在下圖紅框中會有光強度比較強的漏光問題，是cross跟cross互相影響造成的嗎？

[Da cheng Mo]

老師您好:

針對您之前傳的腳本連結:

https://optics.ansys.com/hc/en-us/articles/360041781874-Photolithographic-projection-to-photoresist

 

在101-105這裡做相位補償，但是我的結構是十字而他模擬的範例是圓柱。

 

想請問我需要去改動腳本才能得到我想知道的距離monitor 20um處的場強度圖嗎？

如果需要的話我要如何修改？

[Guilin Sun]

"1.光源傾斜9度時成像有偏移我能理解，但為什麼感覺像是右邊被裁掉然後補到左邊？ "

请参考这里例子中分析组的脚本拼接多个周期结果 https://optics.ansys.com/hc/en-us/articles/360042646593-2D-silicon-square-grating-solar-cell

“還有想請問為何在下圖紅框中會有光強度比較強的漏光問題，是cross跟cross互相影響造成的嗎？”

应该是的，因为周期的作用。

“在101-105這裡做相位補償，但是我的結構是十字而他模擬的範例是圓柱。”

这个不是相位补偿，而是给出像面上的坐标。