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[yadong cheng]

超透镜设计案例中（ https://optics.ansys.com/hc/en-us/articles/360042097313），在进行单元结构扫描时（使用FDTD模型），如果将结构层改为复折射率材料（例如：Si(Silicon)-Palik，3.83622+0.0159291i），其余参数均不变，通过折射率监视器得到的折射率分布如下：

折射率分布会存在“嵌入”的情况。同样的，在材料库中自定义添加（n,k）材料，折射率分布也会存在相似的情况。但是像案例中一样，使用Dielectric材料，折射率分布就不会存在以上现象。

这种情况应该和复折射率的虚部相关，但是我有两个疑问：

1、为何会存在这种现象呢？是否有解决的方法。

2、如果不进行处理，对后续的结构参数扫描有没有很大的影响呢？

 

[Guilin Sun]

这是正常的，这是Preview还是仿真后的？FDTD是网格化的，不可能显示比网格还小的。一般采用Conformal variant 0 即可保证高精度描述材料界面特性。

你想更精确可以在界面上用更细的网格，不够对结果应该影响不大。你可以测试看看。

[yadong cheng]

 

非常感谢您抽出宝贵的时间为我解答问题。

折射率分布是我仿真后得到的。我还有两个疑问，希望您能给我一点建议。

1、根据您的回答，我可以理解为出现以上现象是正常的，而且可以通过网格设置来不断优化； 如果是这样的话，那为何在使用非复折射材料时，就没有这种情况呢？（或者说，为何会存在这种差异呢？）

2、如果我使用同一个结构模型进行仿真，但我想尝试使用不同材料，在从Dielectric材料切换到（n,k）材料时，我除了改变折射率以外，基于以上现象，我还需要进行其它有针对性的设置吗？

 

[Guilin Sun]

简单折射率情况下界面处理简单，复杂的情况结果复杂，你可以放大图片看看具体坐标，一般不会超过一个网格。另外你可以看到简单折射率时界面向上移动了一点。

材料改变，网格/仿真步长/PML性能都有可能改变，甚至光-物质相互作用都有可能不同。一般在能够充分分辨几何形体情况下，用Mesh Accuracy可以自适应划分网格。一般不需要特殊设置。