Ansys Learning Forum › Forums › Discuss Simulation › Photonics – Chinese › 老师,您好,我想问一个关于多步远场计算的问题? › Reply To: 老师,您好,我想问一个关于多步远场计算的问题?
July 26, 2021 at 9:12 pm
Guilin Sun
Ansys Employee
整个器件实际上是宏观的,远比波长大的多。FDTD主要仿真波长量级的器件,主要原因是空间离散需要很多内存,另外就是精度问题。紫外光毫米级的仿真应该是非常吃力的,因此需要不同软件和处理相结合。
第一步:仿真微纳结构,不考虑3毫米厚度,而是仅考虑它作为基底仅出现很小一部分在仿真区。仿真结果可以投射到远场1米远,在玻璃材料内。也可以考虑玻璃第二面的折射反射问题,参见 https://support.lumerical.com/hc/en-us/articles/360034395194-Changing-the-far-field-refractive-index-analysis-object
更精确地考虑3毫米厚度,光线来回反射的情况需要自行推到相关公式,不过最终结果的影响可能比较小。
第二步: 将上述远场结果的角分布转换为300毫米传播距离的空间分布, 参见
Simplified microscopic imaging
Photolithographic projection to photoresist
作为光源,用第三方光线追迹软件设计透镜部分,或者只是成像关系(放大2倍?)的话,可以将远场的角分布直接转换为金属表面上的空间分布。
请再琢磨一下,参考以上例子并做适当修正再做自己的仿真。
第一步:仿真微纳结构,不考虑3毫米厚度,而是仅考虑它作为基底仅出现很小一部分在仿真区。仿真结果可以投射到远场1米远,在玻璃材料内。也可以考虑玻璃第二面的折射反射问题,参见 https://support.lumerical.com/hc/en-us/articles/360034395194-Changing-the-far-field-refractive-index-analysis-object
更精确地考虑3毫米厚度,光线来回反射的情况需要自行推到相关公式,不过最终结果的影响可能比较小。
第二步: 将上述远场结果的角分布转换为300毫米传播距离的空间分布, 参见
Simplified microscopic imaging
Photolithographic projection to photoresist
作为光源,用第三方光线追迹软件设计透镜部分,或者只是成像关系(放大2倍?)的话,可以将远场的角分布直接转换为金属表面上的空间分布。
请再琢磨一下,参考以上例子并做适当修正再做自己的仿真。